半导体外延炉的PM(预防性维修)是保证系统长期性高效运行的重要环节,关键有如下维护保养具体内容:
半导体外延炉的PM分成日常维护保养、维护保养和深度维护保养三个等级,依据机器设备使用次数和生产商强烈推荐周期时间实行。
清理:清除设施表层尘土,擦洗控制面板和机械部件,避免油渍或颗粒物残余。
主要参数查验:确定环境温度、气体压力等关键参数合乎工艺标准。
维护保养
深层清洁:使用专用清洁液清理室,清除堆积物并注意内腔刮痕。
构件查验:校正流量计、液位传感器,清理过滤装置,保证汽体系统软件密闭性。
深层维护保养
构件拆换:拆换室部件、空气压缩机油等关键部件。
功能测试:运行测试片认证离子注入速率和均匀度,保证表层质量合格。